主要的氮化铝(AlN)陶瓷制造商包括 CoorsTek, Kyocera, Tokuyama (SHAPAL™), MARUWA, and Jundro 陶瓷技术公司.这些公司提供的氮化铝基板、散热器和定制元件广泛应用于以下领域 半导体、电力电子、航空航天和医疗设备.氮化铝陶瓷通常可达到 导热系数在 170-200 W/m-K 之间此外,它们还具有出色的电绝缘性能(>10¹³ Ω-cm)和高温稳定性,是高性能应用的关键。
主要制造商和产品能力
| 制造商 | 主要产品 | 导热性 | 应用 | 独特功能 |
| CoorsTek | 定制氮化铝零件、基板 | 170-180 W/m-K | 电子、航空航天 | 100 多年的陶瓷专业知识 |
| 德山 (SHAPAL™) | 可机械加工的氮化铝 | ~90 W/m-K | 半导体工具 | 易于加工,耐卤素等离子体 |
| 京瓷 | 氮化铝基板和组件 | 170-200 W/m-K | 电源模块,射频 | 大规模生产能力 |
| 丸和 | 高纯氮化铝填料和基材 | 160-180 W/m-K | 发光二极管、集成电路封装 | 专有粉末和烧结 |
| Jundro 陶瓷技术 | 精密加工的氮化铝零件 | 170-185 W/m-K | 半导体、国防、医疗 | 定制加工 ±0.001 毫米 |
| 精密陶瓷 | 氮化铝板,PCAN1000 | 170 W/m-K | 热管理 | 硅匹配 CTE |
| Ortech 陶瓷公司 | 基质、坩埚 | 160-170 W/m-K | 工业、电子 | 通过 ISO 认证的定制生产 |
| 下一代先进材料 | 氮化铝单晶衬底 | 180-200 瓦/米-千克 | 先进的电子设备 | 利基研发应用 |
氮化铝陶瓷的常见应用
半导体: 晶圆卡盘、散热器、需要与硅热膨胀相匹配的背板。
电力电子: 由于具有高导热性和绝缘性,可用作 MOSFET、IGBT 和 LED 模块的基板。
微波与射频 用于航空航天和国防通信系统的低损耗基板。
医疗设备: 需要热管理和生物兼容性的高频手术器械。
高温组件: 耐热冲击和化学腐蚀的坩埚和耐火材料。
技术要点
导热性: 170-200 W/m-K(取决于纯度和烧结情况)
电阻率 >10¹³ Ω-cm
CTE(热膨胀系数): ~4.5 × 10-⁶/K(接近硅)
介电强度 15-18 千伏/毫米