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En el mecanizado de cerámica, una de las preguntas más habituales que nos plantean los clientes es: “¿Puede hacerse esta esquina como un ángulo agudo de 90 grados?”. En la mayoría de los casos, la respuesta es no. A diferencia de los metales, la cerámica no puede mantener esquinas afiladas de forma fiable. En su lugar, las esquinas deben diseñarse con chaflanes (C) o filetes (R). Entender por qué es necesario

Las cerámicas de carburo de silicio se utilizan ampliamente en semiconductores, altas temperaturas y entornos industriales corrosivos. Entre ellos, el carburo de silicio ligado por reacción (SiSiC) y el carburo de silicio sinterizado sin presión (SSiC) representan dos sistemas de materiales fundamentalmente diferentes. Aunque ambos se basan en SiC, su composición, microestructura, límites de rendimiento y estructura de costes difieren significativamente. Composición del material SiSiC (carburo de silicio ligado por reacción) SiSiC es

La cerámica de nitruro de aluminio (AlN) se utiliza ampliamente en aplicaciones electrónicas, aeroespaciales e industriales debido a su excepcional conductividad térmica, aislamiento eléctrico y estabilidad dimensional. Las piezas cerámicas de precisión de AlN ofrecen soluciones a medida para sectores que requieren tolerancias estrechas y un rendimiento fiable. Por qué son importantes las piezas cerámicas de nitruro de aluminio de precisión Los componentes de AlN de alta precisión abordan múltiples retos de ingeniería: Gestión térmica:

Los anillos de grabado de cerámica de alúmina son componentes consumibles pero críticos en los sistemas de grabado por plasma. Controlan la distribución del plasma, protegen el hardware de la cámara y reducen la contaminación cerca del borde de la oblea. Uno de nuestros clientes, fabricante de equipos de grabado por plasma ICP, se puso en contacto con nosotros debido a problemas de erosión de los bordes y alarma de partículas. Nuestra solución consistió en mejorar la pureza de la alúmina

Francamente, en los cinco años que llevamos trabajando en el campo de la cerámica técnica, más de 60% de nuestros productos sirven a la industria de semiconductores. Entre ellos, los materiales más suministrados son sin duda la alúmina, el nitruro de aluminio, el carburo de silicio, el zerodur y la sílice fundida. Estos materiales se utilizan habitualmente en etapas críticas de la fabricación de semiconductores, como la oblea

Para obtener piezas de precisión de sílice fundida sin defectos, es necesario dominar los métodos y equipos de procesamiento adecuados. Como material preferido para la industria aeroespacial, los semiconductores y la óptica, el cuarzo posee un coeficiente de dilatación térmica ultrabajo, una excelente transparencia óptica y una buena resistencia química. Los siguientes puntos le ayudarán a comprender cómo mecanizar con precisión piezas de vidrio de cuarzo.

Aunque el cuarzo y el zafiro son vidrios transparentes e incoloros y tienen un aspecto muy similar, difieren fundamentalmente en sus propiedades físicas, ópticas y aplicaciones prácticas. En este artículo se compararán sistemáticamente el vidrio de cuarzo y el vidrio de zafiro desde varias dimensiones clave. Composición del material El vidrio de cuarzo es un material amorfo con propiedades constantes en todas las direcciones; el zafiro

Las cerámicas de bajo CET se refieren a materiales cerámicos avanzados con un bajo coeficiente de expansión térmica (CET), lo que significa que experimentan un cambio dimensional mínimo cuando se exponen a variaciones de temperatura. Esta propiedad es fundamental en aplicaciones de alta precisión y estabilidad, en las que el desajuste térmico puede provocar tensiones, desalineaciones o fallos. En comparación con los metales y los polímeros, los materiales cerámicos de bajo CET ofrecen

El cabezal de ducha, también conocido como placa de distribución de gas o placa de ducha de gas, es un componente de distribución de gas utilizado en procesos de semiconductores como PVD, CVD y grabado. Su función principal es distribuir uniformemente los gases de proceso en la cámara de reacción, lo que permite la deposición de película delgada de alta calidad, el grabado, o reacciones de plasma, mejorando así la eficiencia de la producción y el producto.

Las cerámicas de nitruro de silicio (Si₃N₄) son famosas por su extraordinaria dureza, tenacidad a la fractura y resistencia al choque térmico. Estas propiedades también hacen que el mecanizado del nitruro de silicio sea mucho más difícil que el de los materiales cerámicos comunes. Incluso una ligera manipulación incorrecta puede provocar astillamientos, grietas y otros defectos, afectando gravemente a la precisión dimensional. Estos resultados son inaceptables para aplicaciones