Las cerámicas de carburo de silicio se utilizan ampliamente en semiconductores, altas temperaturas y entornos industriales corrosivos. Entre ellos, Carburo de silicio ligado por reacción (SiSiC) y Carburo de silicio sinterizado sin presión (SSiC) representan dos sistemas de materiales fundamentalmente diferentes. Aunque ambos se basan en SiC, sus composición, microestructura, límites de rendimiento y estructura de costes difieren significativamente.
Composición del material
SiSiC (carburo de silicio ligado por reacción)
El SiSiC se produce infiltrando silicio fundido en una preforma porosa de carbono o SiC-carbono. Durante la infiltración, el silicio reacciona con el carbono para formar SiC secundario, mientras que una parte de queda silicio libre en la estructura final.
Composición típica (en peso):
SiC: ≥ 83%
Free Si: ≤ 16%
La presencia de silicio libre mejora la densificación y la estabilidad dimensional, pero define los límites superiores de temperatura y corrosión del material.
SSiC (carburo de silicio sinterizado sin presión)
El SSiC se fabrica a partir de polvo de SiC de gran pureza y se densifica mediante sinterización en estado sólido sin presión externa. La microestructura resultante es casi 100% SiC, con límites de grano limpios y sin fase de silicio libre.
Pureza típica:
Contenido de SiC: ≈ 99%
Propiedades físicas y mecánicas
Densidad y porosidad
SiSiC: Densidad ≥ 3,02 g/cm³, porosidad ≤ 0,3%
SSiC: Densidad ≈ 3,15 g/cm³, porosidad abierta casi nula.
Su mayor densidad y pureza confieren al SSiC una fiabilidad mecánica superior en condiciones extremas.
Resistencia y propiedades elásticas
| Propiedad | SiSiC | SSiC |
| Resistencia a la flexión (20 °C) | ≥ 250 MPa | ≈ 450 MPa |
| Resistencia a la flexión (1200 °C) | ≥ 280 MPa | Mantiene una alta resistencia |
| Módulo elástico | ≥ 300 GPa | ≈ 430 GPa |
| Resistencia a la fractura | - | ≈ 4 MPa-m¹ᐟ² |
| Relación de Poisson | - | 0.14 |
Rendimiento térmico
| Propiedad | SiSiC | SSiC |
| Conductividad térmica (25 °C) | ≥ 140 W/m-K | ≈ 110 W/m-K |
| Coeficiente de dilatación térmica | (4.5 ± 0.5) ×10-⁶ /K | ≈ 4.0 ×10-⁶ /K |
| Temperatura máxima de servicio | ~1350 °C | >1600 °C |
| Punto de fusión | - | ~2800 °C |
| Calor específico | - | 0,8 J/g-K |
Propiedades eléctricas
| Propiedad | SSiC |
| Constante dieléctrica (1 MHz) | ≈ 10 |
| Pérdida dieléctrica (1 MHz) | ≈ 0.001 |
| Rigidez dieléctrica | ~1 × 10⁶ V/cm |
| Resistividad eléctrica | 10⁷-10⁹ Ω-cm |
Aplicación típica
Aplicaciones SiSiC
Susceptores semiconductores y placas soporte
Muebles de horno y componentes de rodillos
Intercambiadores de calor
Grandes piezas estructurales
Aplicaciones SSiC
Cierres mecánicos de alta gama
Componentes de proceso de semiconductores de alta temperatura
Entornos químicos muy corrosivos
Sistemas aeroespaciales y de alta fiabilidad