半导体元件：碳化硅/石英淋浴喷头

淋浴喷头, 又称 配气盘 或 燃气淋浴板, 是一种气体分配元件，用于半导体工艺中，例如 PVD、CVD 和蚀刻. .其核心职能是 将工艺气体均匀地分配到反应室中, 从而实现高质量的薄膜沉积、蚀刻或等离子反应，从而提高生产效率和产品质量。.

适用设备

1.控制气体分布和均匀性

花洒的主要作用是 准确地将工艺气体分布到晶片表面.
在晶片加工过程中，喷淋头表面密布微孔 (孔直径： 0.2-6 毫米).通过大量精密的微孔，气体以均匀和可控的方式输送，从而确保整个晶片上一致的薄膜沉积速率、蚀刻速率和整体工艺均匀性。.

2.提高薄膜质量和产量

精确的气体分布 → 均匀的薄膜厚度

均匀的反应环境 → 降低缺陷密度

优化孔径和孔型 → 提高工艺稳定性

3.作为等离子电极/反应场结构的功能

在等离子体辅助工艺（如 PECVD 和 干蚀刻)，淋浴喷头通常充当电极。.
当与 射频电源, 它有助于产生 均匀等离子体场, 从而提高沉积或蚀刻的均匀性。.

淋浴喷头通常包括

面板/顶板

大量微孔均匀分布在表面，用于注入气体。.

背板/支撑结构

与供气系统连接地暖, 确保所有孔的气体压力均匀。.

密封和连接部件

保持腔体内的真空完整性，便于拆卸和维护。.