离子源和等离子源应用中的氧化铝组件

在现代等离子体和离子源技术中，可靠性取决于能够承受极端电场、热循环和高真空环境的材料。在所有工程陶瓷中，氧化铝（Al₂O₃）仍然是射频和直流等离子应用的首选，它兼顾了机械强度、电绝缘和化学稳定性。.

氧化铝为何是离子源和等离子源的理想选择

氧化铝陶瓷具有多项关键优势，是等离子系统不可或缺的材料：

出色的介电强度 用于高压和射频应用
热稳定性高, 在高达 1600 °C 的温度下仍能保持结构和隔热性能
真空兼容性 - 放气和污染极低
抗等离子侵蚀 以及 Ar、O₂ 或 CF₄ 等活性气体
精密加工性 适用于复杂几何形状和微小公差

这些特性使氧化铝非常适合于在以下条件下工作的射频等离子源 13.56 兆赫 和离子束系统，在这些系统中，精确的电气隔离和真空密封至关重要。.

离子源和等离子源中常用的氧化铝成分

杯形卸料腔
- 用作等离子体约束腔。.
- 在阴极、阳极和提取电极之间进行电气隔离。.
射频真空窗
- 向等离子体室发射 13.56 MHz 射频功率。.
- 设计用于承受真空压力和温度循环。.
绝缘环和垫片
- 分离金属电极和结构部件。.
- 在高压运行下保持机械对准。.
气体馈入绝缘子和支撑管
- 用于引入气体或冷却管路，同时保持真空完整性。.

精密加工能力

在 Jundro Ceramics，我们拥有先进的 三轴、四轴和五轴数控加工中心 能够实现：

尺寸公差： ±0.01毫米
表面粗糙度： Ra 0.01 μm
平整度 达 0.001 毫米
复杂的内部和外部几何形状

每个部件都是在严格的 ISO 9001 质量控制下生产的，并可根据以下要求进行定制 图纸或 3D CAD 文件（STEP、STP、PDF）.

我们支持的应用

射频等离子发生器和蚀刻系统
离子和中性光束源
加速器和聚变研究
半导体沉积和溅射系统
空间推进和等离子体诊断

我们成功供应的氧化铝部件包括 杯型离子源室, 与国际研究机构和等离子设备制造商合作。.