石英ガラス

熱膨張係数が非常に小さい（約0.5 × 10-⁶ /°C）

素材	石英ガラス
密度	2.20 g/cm³
粗さ	Ra0.002μm
最大サイズ	ф500*50mm

はじめに

溶融シリカガラスは、その優れた物理的・化学的特性により、半導体、光学、科学研究などのハイテク分野で広く使用されている。高純度二酸化ケイ素SiO₂（>99.9%）の非晶質材料で構成され、他の酸化物を含まず、不純物を避けることができます。同時に、溶融シリカは酸、アルカリ、ほとんどの腐食性物質に対して強い耐性を持ち、過酷な化学環境に適しています。以下にその特徴と用途を詳しく紹介します。

石英ガラスの利点

高純度>99.9% SiO₂

✅ 熱膨張係数が極めて小さく(0.5 × 10-⁶ /°C) 、熱衝撃に強い。

✅ 高い抵抗率

✅ 化学薬品に対する強い耐性

✅ 深紫外から赤外 (175 nm ~ 2500 nm)まで高い透過率で、光学用途に適している。

高い機械的強度、精密研磨可能な表面

申し込み

フォトリソグラフィマスク、フォトリソグラフィ装置レンズ、ウェハーキャリア、熱処理ボート、キャビティウィンドウ

紫外線レンズ、レーザーウィンドウ、リフレクター基板

赤外線/紫外線ウィンドウ、高速航空機ウィンドウ

石英キュベット、レーザー共振器レンズ

分光計とクロマトグラフの光路部品 ✅ 分光計とクロマトグラフの光路部品

✅ 高温ガスセンサー窓

✅ 微細構造デバイス、光トラップ構造、真空キャビティ窓

干渉計、ジャイロスコープ基板

石英ガラス特性

材料特性

プロパティ	単位	石英ガラス
密度	g/cm³	2.2
曲げ強度	MPa	80
圧縮強度	MPa	1100
弾性係数	GPa	220
ポアソン比	-	0.17
ヤング率	GPa	72

熱特性

プロパティ	単位	石英ガラス
熱伝導率	W/m-K	1.38
融点	°C	1730
最高使用温度	°C	1200
線膨張係数	10-⁶/K	0.55

電気的特性

プロパティ	単位	石英ガラス
誘電率	1 MHz	3.75
絶縁破壊電圧	V/cm	400
誘電損失	1 MHz	< 0.0004
抵抗率	Ω・cm	> 10¹⁸

石英ガラス加工

石英ガラスメーカー

高純度石英ガラス製造と精密加工のエキスパート
当社は高純度石英ガラスの専門メーカーであり、材料供給から精密CNC加工まで一貫したサービスを提供しています。高度な3軸、4軸、5軸加工能力により、超精密公差（±0.001mm）、光学グレードの研磨（最大1/20λ）、複雑な形状のカスタム部品を製造しています。

当社の溶融シリカ部品は、半導体、光学、航空宇宙、分析機器、科学研究などに幅広く使用されています。ISO 9001およびISO 14001の認証に支えられ、安定した品質、迅速な納品、お客様の重要な用途に合わせた技術サポートをお約束します。

よくあるご質問

溶融シリカは石英ガラスと同じですか？

そうだ。.
溶融シリカは非晶質のSiO₂を指す。石英は結晶である。.
熱やストレスの下では、それぞれ異なる振る舞いをする。.

JGS1溶融シリカとは？

JGS1石英は、高純度、優れた紫外線透過率（185-2500nm）、優れた熱安定性を特徴とするUVグレードの光学石英材料です。中国のGB/T 31447.1規格の光学石英（JGS1, JGS2, JGS3）の一つです。

JGS1： UVグレード、深紫外および精密光学に最適。
JGS2： 可視-IR用の標準光学グレード。
JGS3： IRグレード、熱または赤外線アプリケーションに最適。

JGS1溶融シリカについての詳しいガイドはこちらをクリックしてください。

半導体デバイスにおける石英ガラスの用途

リソグラフィー＆直描、露光窓、マスクホルダー
フォトレジスト塗布・現像、石英コーティングカバー
ウェットプロセス装置、ウェハキャリア、ボート
ドライエッチング装置、石英チャンバーライナー、電極カバー
薄膜蒸着（CVD、PECVD、ALD）、チャンバーライナー
その他の半導体アプリケーションについては、こちらの記事(3分でわかる半導体製造装置における石英ガラス溶融塩の完全な応用例)