300mm水平ウェーハプロセス装置における高性能セラミックス

今日のウェーハバッチ処理装置の中で、セントロサームのc.HORICOO300 を例に挙げる。この装置は、日本のルネサスエレクトロニクスが山梨県にある300mmパワー半導体製造ラインで、主に酸化・アニール工程に使用されています。同装置は、8チューブクラスター設計を採用し、全自動ウェーハおよびウェーハボート搬送システムを備えており、生産能力と歩留まりを向上させ、総所有コストを最大50%削減している。しかし、微小パーティクルの混入や熱電界の不均一は歩留まりの低下を招く可能性がある。そのため、φ200/300mmウェハープロセス装置の部品に対する要求は非常に厳しい。従来の金属材料ではこの要求を満たすことは難しく、高性能セラミック材料はこの問題を完璧に解決することができます。通常、セラミック材料（例えば 酸化アルミニウム そして 窒化アルミニウム)は、高温耐性、高絶縁性、低汚染性という特徴を持ち、装置の安定性を大幅に向上させることができる。