Mandril de vacío de cerámica porosa para semiconductores

Los mandriles de cerámica porosa son un tipo de mandril de vacío que utiliza canales interconectados micrométricos/submicrométricos para lograr una adsorción uniforme de la presión negativa. En comparación con los mandriles metálicos tradicionales ranurados o perforados, la cerámica porosa puede proporcionar una adsorción uniforme en toda la superficie sin depresiones localizadas, lo que reduce en gran medida la deformación y la tensión localizada causadas por las obleas finas que son "aspiradas por las ranuras". Esto es especialmente importante para los procesos de precisión, como las obleas ultrafinas.

Pistola de vacío de cerámica porosa

Ventajas

Adsorción uniforme: Los microporos se distribuyen por toda la superficie para evitar la deformación localizada causada por la adsorción.

Compatibilidad con salas limpias y de bajas partículas: Se utilizan materiales de alta pureza para cumplir los requisitos de partículas e impurezas de los procesos de sala blanca.

Estabilidad química y térmica: Dependiendo de la selección del material (alúmina/SiC), es compatible con procesos de limpieza a alta temperatura, por plasma o químicos.

Tamaño de poro y porosidad personalizables: El tamaño de poro (normalmente 1-120 μm) y la porosidad abierta (por ejemplo, 30-50%) pueden controlarse utilizando porógenos o fases de sacrificio para equilibrar la fuerza de adsorción y el rendimiento de filtración de partículas.

Materiales más utilizados

Óxido de aluminio de gran pureza (Al₂O₃): Puede lograr una excelente planitud de la superficie, es rentable y fácil de procesar, y es adecuado para la mayoría de los escenarios de semiconductores.

Carburo de silicio (SiC/SiSiC): Mayor estabilidad térmica y resistencia mecánica, adecuado para entornos de rectificado y CVD a alta temperatura o con cargas pesadas.

Compuesto cerámico o formulación especial: Se puede utilizar una formulación especial o un tratamiento superficial (revestimiento, sellado) para satisfacer las necesidades de control de partículas, conductividad térmica o conductividad eléctrica.

Especificaciones

Artículo Ejemplo Valor / Descripción
Material 99,5% Al₂O₃ / SiC (opcional)
Tamaño de poro 1 μm / 5 μm / 15 μm / 25 μm (personalizable). Comúnmente ≤25 μm para uso óptico / oblea delgada (photomachining.com).
Porosidad 30-50% (ajustable según la aplicación) (xminnovacera.en.made-in-china.com)
Planitud (TTV) 1-10 μm (según el tamaño y el grado de mecanizado)
Temperatura máxima de funcionamiento Al₂O₃ ~1000 °C (dependiendo de la sinterización y la composición), SiC más alto (xminnovacera.en.made-in-china.com)
Tamaño/forma común Circulares de 4″-12″, cuadradas o con formas personalizadas.

Aplicación

  • Ventosas para máquinas trituradoras/retrotrituradoras y cortadoras de obleas.
  • Fijación sin arañazos en el procesamiento y pulido de lentes ópticas.
  • Estaciones de sondeo/plataformas de inspección (adsorción uniforme, fijación de muestras minúsculas).

PREGUNTAS FRECUENTES

Un buen proceso y postprocesado (materiales de alta pureza, sinterización controlada, limpieza y envasado al vacío) pueden reducir el riesgo de partículas a un nivel muy bajo; si es necesario, se puede seleccionar un tamaño de poro más pequeño o un sellado/revestimiento de la superficie para reducir aún más el riesgo.

Para piezas ultrafinas/ópticas, seleccione ≤25 μm; para aspiración rápida o manipulación de grandes superficies, elija una apertura mayor para reducir la resistencia al flujo de aire.

Ambas se complementan; las cerámicas porosas son adecuadas para la adsorción en vacío uniforme sin contacto (sin daños electrostáticos), mientras que los mandriles electrostáticos presentan ventajas en determinados escenarios de carga automática y control de temperatura. Puede elegir en función del rendimiento, el material y la integración del equipo.