Hochleistungskeramik in horizontalen 300-mm-Waferverarbeitungsanlagen
Unter den heutigen Wafer-Batch-Processing-Anlagen ist die c.HORICOO300 von centrotherm ein Beispiel. Diese Anlage wird von der japanischen Firma Renesas Electronics in ihrer 300-mm-Produktionslinie für Leistungshalbleiter in der Präfektur Yamanashi hauptsächlich für Oxidations- und Glühprozesse eingesetzt. Die Anlage besteht aus einem 8-Röhren-Cluster und ist mit einem vollautomatischen Wafer- und Wafer-Boot ausgestattet.