Aluminiumnitrid-Wafer-Träger

Aluminiumnitrid Der Waferträger ist ein Träger, der für den Transport von Wafern in Halbleiteranlagen (z. B. für Abscheidungs-, Ätz- oder Wärmebehandlungsschritte) verwendet wird. Er kann den Wafer durch elektrostatische Adsorptionstechnologie fixieren, um zu verhindern, dass sich der Wafer verzieht und verformt. Üblich sind allgemeine 12 Zoll 300mm AlN (Aluminiumnitrid) Wafer Carrier Größe und kundenspezifische AIN Träger. Aluminiumnitrid-Keramik hat eine sehr hohe Wärmeleitfähigkeit, ist elektrisch isolierend, ungiftig und umweltfreundlich und kann auch zu komplexen Formen verarbeitet werden (elektrostatischer Chuck, Heizung, Klemme, Arm und andere Komponenten).

Hauptmerkmale der AlN-Wafer-Träger

Die Wärmeleitfähigkeit beträgt bis zu 170 W/m-K, wodurch die Wärme für Halbleitergeräte effektiv abgeleitet werden kann.
Gute Isolierleistung, die Schäden an Geräten durch statische Elektrizität verhindern kann
Chemische Beständigkeit, kann in rauen Umgebungen eingesetzt werden
Hohe Dimensionsstabilität, kann genau positioniert werden
Geeignet für Präzisionsbearbeitung, unterstützt komplexe Formen
Ungiftig und umweltfreundlich

Aluminiumnitrid Typische Anwendungen

Handhabung von Wafern in CVD/PECVD- und Plasmaätzanlagen
Substratträger für Leistungsgeräte
Direktes Wafer-Bonden
Halbleiter-Thermopads
Wafer-Träger
Armgreifer

Kontakt

Wir sind ein professioneller Hersteller von ultraharten keramischen Werkstoffen und verfügen über umfangreiche Erfahrung in der Verarbeitung von Aluminiumnitridkeramik. Ganz gleich, ob Sie Bleche, Stäbe, Rohre, Waferträger, Wärmeleitplatten oder andere kundenspezifische AIN-Komponenten für Ihr Projekt bestellen möchten, Sie können sich für eine kostenlose Beratung an unsere Experten wenden, und wir werden Ihnen gerne helfen.

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