Borofloat® 33 Borosilikatglas

Borofloat® 33 Borosilikatglas entwickelt von SCHOTT ist ein Hochleistungsmaterial, das häufig in der Hochpräzisionsoptik, in Halbleitern und bei Hochtemperaturanwendungen eingesetzt wird. Es hat eine sehr hohe chemische Inertheit, einen sehr hohen WAK-Koeffizienten und einen sehr niedrigen Brechungsindex und löst damit Probleme in der Optik, im Vakuum und in anderen Bereichen.

Borofloat® 33 Borosilikatglas

Borofloat® 33 Chemische Zusammensetzung

EigentumWert / Beschreibung
Chemische ZusammensetzungSiO₂ (81%), B₂O₃ (13%), Na₂O/K₂O (4%), Al₂O₃ (2%)
Dichte2,22 g/cm³
Mohs-Härte6.5
Lichtdurchlässigkeit92% (Wellenlängenbereich: 350 nm - 2000 nm)
Maximale Betriebstemperatur450°C (bis zu 600°C bei kurzzeitiger Einwirkung)

Wärmeausdehnungskoeffizient (CTE)

Borofloat® 33 hat einen extrem niedrigen WAK, der nur 1/3 des WAK von gewöhnlichem Glas beträgt und nahe an der Wärmeausdehnungsrate von metallischem Aluminium liegt. Wenn das Projekt einen niedrigeren WAK erfordert, empfiehlt es sich, folgende Materialien zu wählen ULE-Glas oder Zerodurdie beide einen Wärmeausdehnungskoeffizienten von nahezu 0 haben

  • 20°C-300°C:3,25 × 10-⁶/K
  • 20°C-500°C:3,75 × 10-⁶/K

Brechungsindex (verschiedene Wellenlängen)

Wellenlänge (nm)587,6 (d-Linie)656,3 (C-Linie)486,1 (F-Linie)
Brechungsindex1.47341.46961.482

 

Schmelzpunkt und thermische Stabilität

  • Erweichungspunkt: 820°C
  • Glühpunkt: 560°C
  • Hitzeschockbeständigkeit: ΔT bis zu 160K (1mm Dicke)

Borofloat® 33 Anwendungen

Der niedrige Temperaturkoeffizient des Brechungsindex von Borofloat® 33 (dn/dT=1,6×10-⁶/K) stellt sicher, dass das Lasersystem die Strahlkollimation in einer Umgebung von -40°C bis 200°C beibehält und löst damit das Problem der thermisch bedingten optischen Verzerrung von Hochleistungslasern. Bei Halbleiter- und Vakuumanwendungen widersteht Borofloat® 33 der HF-Säuredampfkorrosion im Ätzprozess, da es keinerlei Porosität aufweist und chemisch äußerst inert ist. Dadurch verlängert sich seine Lebensdauer um das Fünffache im Vergleich zu herkömmlichem Glas und das Risiko der Waferkontamination wird verringert.

🔹Optische Geräte

🔹Laser-Fenster

🔹Optische Filter

🔹Wafer-Träger

🔹Beobachtungsfenster der Vakuumkammer

🔹Abschirmplatten für Plasmaanlagen

🔹MEMS-Drucksensor-Substrate

🔹Prüfgeräte für hohe Temperaturen

Borofloat® 33 Borosilikatglas Hersteller

Wir sind ein hochwertiger Hersteller von Keramik- und Glasmaterialien, der sich auf die Bearbeitung schwieriger Materialien spezialisiert hat. Wir setzen unsere professionelle Technologie und fortschrittliche Ausrüstung ein, um unseren Kunden einen hervorragenden Service zu bieten. Für optische Glasmaterialien bieten wir unregelmäßige, runde, gekrümmte Oberflächenbearbeitung usw. mit einer Bearbeitungsgenauigkeit von bis zu 0,001 und einer Plangenauigkeit von bis zu 1/20λ.

Wenn Sie sich für Borofloat® 33-Glas für Ihr Projekt entscheiden müssen, wenden Sie sich bitte an unsere Experten und wir werden Sie bei Ihrem Projekt tatkräftig unterstützen.

FAQ

Anforderungen an die Ebenheit: Die Standard-Ebenheit von Borofloat 33 beträgt ≤5μm/m (gemäß der Norm ISO 10110 für optisches Glas) und kann nach hochpräziser Bearbeitung ≤1μm/m erreichen.

  • Lasersystem: Eine unebene Oberfläche führt zur Streuung des Strahls und verringert die Effizienz der Energieübertragung.
  • Halbleiterlithografie: Ein unebenes Substrat führt zu einer Verzerrung des Belichtungsmusters, die auf ≤0,5μm/m kontrolliert werden muss.
  • Lösung: Wählen Sie die Originalfolie im Floatverfahren aus und reduzieren Sie die innere Spannungsverformung durch ein Präzisionsglühverfahren.

Erweichungspunkt: 820°C (Obergrenze der normalen Gebrauchstemperatur 450°C, kurzfristige Toleranz 600°C).

Anwendungsbeschränkungen bei hohen Temperaturen:

Langfristige Verwendung: Eine Temperatur von über 450°C beschleunigt die Kristallisation, und es wird empfohlen, eine Antikristallisationsbeschichtung (wie Siliziumnitrid) zu verwenden.

Risiko eines Temperaturschocks: Die Temperaturdifferenz während der schnellen Abkühlung muss ≤160K (Dicke 1mm) sein, um Risse zu vermeiden.

Typische Anwendungen: Hochtemperatur-Beobachtungsfenster (wie z. B. Schaugläser für Öfen) müssen mit einem graduellen Temperaturaufbau konstruiert werden, um Spannungskonzentrationen an den Kanten zu vermeiden.

MaterialCTE (20°C-300°C, ×10-⁶/K)Vergleich der anwendbaren Szenarien
Borofloat 333.25Präzisionsoptiken/Halbleiter (CTE-angepasste Metalle)
Gewöhnliches Kalk-Natron-Glas8.5-9.0Bauen/Verpacken (Low-Cost- und Low-Demand-Szenarien)
Quarzglas0.55Extrem hohe Temperatur (aber hohe Kosten und schwierig zu verarbeiten)

Durchlässigkeitsbereich:

Ultraviolett (UV): Durchlässigkeit > 80% (ab 350nm).

Sichtbares Licht: 92% (550nm Wellenlänge).

Infrarot (IR): > 90% (bis 2000nm), reduziert auf 50% bei 2500nm.

Anpassungsfähigkeit der Anwendung:

Empfohlene Szenarien: Laser (1064nm), Infrarotsensorfenster, UV-Desinfektionslampenschirm.

Eingeschränkte Szenarien: Für Anwendungen im fernen Infrarot (> 3μm) wird empfohlen, stattdessen Calciumfluorid (CaF₂) oder Zinkselenid (ZnSe) zu verwenden.